Автор работы: Пользователь скрыл имя, 12 Июня 2013 в 14:40, курсовая работа
Линии задержки представляют собой пассивные линейные устройства, основным функциональным назначением которых является задержка электрических сигналов во времени с минимальными искажениями их формы.
Основными параметрами линий задержки, исходя из их назначения, считают:
время задержки;
величина вносимых потерь ВП;
средняя частота полосы пропускания;
ширина частоты пропускания, которая определяется по разности частот, при которых выходной сигнал в 1,41 раза меньше максимального уровня;
Введение__________________________________________________5
1.Теоретическая часть__________________________________________7
2.Анализ технического задания__________________________________10
3. Расчетная часть_____________________________________________11
4. Конструкторская часть_______________________________________15
5. Технологическая часть_______________________________________16
Заключение________________________________________________18
Список используемой литературы______
температурный коэффициент задержки ТКЗ = ;
относительная ширина пропускания .
Так, как даны два времени задержки выбираем ЛЗ на поверхностных акустических волнах, так как довольно просто выполнить ее многоотводной, и при выборе поверхностных акустических волн возможно значительное уменьшение габаритных размеров МЛЗ.
По значению ТКЗ выберем монокристалл звукопровода . Его характеристики показаны в таблице 1.1.
Таблица 1.1 - Основные характеристики звукопровода
Материал |
Ориентация |
Скорость ПАВ, м/с |
ТКЗ ,К-1 |
Коэффициент поглощения, дБ/мкс |
Коэффициент электромеханической связи |
|
y,z |
3488 |
94 ∙ 10-6 |
0,88 |
4,5 |
1. Разрабатываем топологию встречно–штыревых преобразователей (ВШП).
При этом рассчитываем период ВШП (Т), его шаг (h), ширину электродов (d), апертуру (W), количество электродов (N).
Рассчитаем количество пар электродов ВШП:
где =0,6-0,8 – коэффициент, который учитывает сужение полосы пропускания ЛЗ;
Рассчитаем период ВШП:
где – скорость распространения ПАВ;
Рассчитаем шаг ВШП:
Рассчитаем ширину электродов ВШП:
мкм
Рассчитаем апертуру ВШП:
где – длина волны ПАВ;
- максимальное время задержки.
мкм
мм
Выберем
мм
2. Рассчитаю расстояние между излучающим и принимающими ВШП:
мм
мм
3. Рассчитаю габариты звукопровода:
Определим длину звукопровода:
(3.8)
Так как входной и выходной ВШП имеют одинаковую конструкцию, то:
где
- длина преобразователя;
мм - расстояние между крайним электродом преобразователя и торцевой гранью;
- расстояние между преобразователями;
мм
Определим ширину звукопровода:
где
= 5..10 мм – расстояние между общей шиной ВШП и продольной гранью звукопровода.
мм
Толщина звукопровода
(3.13)
мм
Возьму D=0,5мм
4. Определяю потери на омическом сопротивлении электродов:
где
t – толщина электродов.
В качестве материала электродов выберем алюминий.
Дб
где
– коэффициент
Число электродов преобразователя берем из графика зависимости акустической и электрической добротностей преобразователя:
Дб
Дб
Дб
6. Определю мощность ложного сигнала:
Дб
4.КОНСТРУКТОРСКАЯ ЧАСТЬ
Выводы изготавливают из бронзовой проволоки диаметром 0,7 мм, с последующим лужением припоем ПОС – 61 в местах пайки, и устанавливают в основание, изолируя их от корпуса с помощью неорганического стекла.
Основное место в корпусе занимает звукопровод. Крепление звукопровода к основанию корпуса осуществляется путем склеивания. При этом нижнюю поверхность платы покрывают равномерным слоем клея Д-9 толщиной около 1мм. После установки платы на основание корпуса к плате прикладывают равномерно распределенное усилие и удерживают в таком состоянии до тех пор, пока между внутренними поверхностями платы и основания толщина клея достигнет примерно 0,6мм. Данный слой выполняет три функции:
1) крепление платы;
2) обеспечение амортизации;
3)поглощение сигналов, обусловленных
возбуждением и приемом обьемны
Электрическое соединение контактных площадок платы с выводами выполняется золотыми проводниками Зл 999,9 диаметром около 40 мкм с применением микросварки.
Крышку устанавливают на
5.ТЕХНОЛОГИЧЕСКАЯ ЧАСТЬ
Для подавления объемных акустических волн на обратной стороне подложки необходимо нанести алмазным диском насечку под углом к направлению распространения ПАВ. Шаг насечки может составлять 5..15 длин волн ПАВ, глубина равна половине шага.
Перед полировкой пластину подвергают шлифовке порошком М20 – при этом снимается слой 0,25 мм, порошком М10 – снимается слой 0,15 мм и еще раз порошком М10 снимается слой 0,1 мм. Полировка пластин производится в плоскошлифовальных станках. Для полировки ниобата лития используются суспензии на основе синтетических алмазных порошков АСН3/2 и АСН1/0. Скорость вращения шлифовальника и давление на колодку с пластинами подбирают экспериментальным путем, и обычно они соответственно составляют 50 … 200 , 0,5 … 2,0 . Процесс полировки пластин необходимо проводить в отдельных технологических помещениях, имеющих низкую запыленность. Полировальняе суспензии должны быть тщательно приготовлены и не содержать частиц, размер которых превышает размер частиц полирующего вещества. После полировки пластина должна иметь царапин и поверхность должна отвечать требованиям ГОСТ 11141- 76, классу частоты Р1.
Качество очистки подложки в значительной степени определяет характеристики устройств на ПАВ и процент выхода годных изделий. Процесс очистки подложек заключается в тщательной отмывке ее от органических и механических загрязнений, а также в активации поверхности для повышения адгезии металлической пленки.
Недостаточно качественная очистка подложек обычно приводит к плохой адгезии металлической пленки, а механические загрязнения и пылинки – к проколам в пленке, которые ведут к обрывам электродов ВШП.
Металлизация рабочей
охлаждаемых жидким азотом, и натеканием воздуха в систему не более л. тор/с. В качестве материалов испарителей для ванадия пригодны вольфрам и молибден. Для обеспечения хорошей адгезии пленки алюминия толщина подслоя ванадия должна быть 0,2 мкм.
Оптимальная температура подложки при напылении алюминия составляет и скорость осаждения 10 нм/с. Толщина пленки алюминия равна 0,2 мкм.
Потом с помощью фотолитографии будут получены ВШП для разрабатываемой МЛЗ, поскольку данный метод технически и экономически более целесообразен.
Последовательность
На заключительной стадии производят контроль фотошаблонов, который включает измерение линейных размеров и оптической плотности непрозрачных участков. При этом применяется часовые протекторы типа ЧП-2 или измерительные микроскопы УИМ – 23 или УНЧ – 250, МИИ-4, МИИ-7. Плотность непрозрачных участков фотошаблонов замеряется на фотоэлектрическом динамометре ДФЭ-10 или микрофотометре MФ-4.
Информация о работе Линия задержки на поверхностных акустических волнах